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器件型号：LDC1101 您好！
背景信息：我想确定硅锭中的掺杂物密度(硼或磷的浓度)。 由于化学特性、我不能完全理解、当一个块被铸造时、顶部的非金属多于底部的非金属。 根据我所阅读的文献和一些初步测试、成分的变化将对电阻率产生显著且可测量的影响。
我建议的设置：我将有一个线圈朝下、并且高度固定。 下面是电机平台上的模块。 我将把块放在一边、这样组成的变化、从而电阻率的变化现在位于 x 轴上。 当平台向左或向右移动时、我将能够观察到 Rp 的变化。
我的问题：我认为为了使这种方法能够精确地工作、模块和线圈之间的距离必须是一致的。 由于块不是完全平坦、因此块和线圈之间的距离可能会有高达1.5mm 的变化。
我的问题：
- 硅、硼和磷的相对渗透率均为1。 我认为这意味着、无论成分如何、在到根 T 的特定距离处测量的电感都是相同的。 是这样吗？
- 如果是、Rp 与距离曲线是否始终相同？
我希望、如果问题1的答案是肯定的、我可以创建一个实例查找表、该表将为我提供与传感器的绝对距离、而不管其成分如何。
如果 Rp 与距离曲线始终相同、那么我希望随后补偿从电感中推导出的任何距离变化。
这似乎是一个有效的想法吗？
