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Pattern Sequence Mode 下，最短的曝光时间是235us，是否可以通过二次开发，通过iiC协议，使曝光时间缩短到20us以下。
不能的,这个是由DMD本性决定的.
http://www.ti.com/lit/ug/dlpu011e/dlpu011e.pdf
第49页.
我想您可能是理解错了我的意思，我不要求每秒钟有高于4225个Pattern，我是希望在每个Pattern里面亮灯的时间缩短，由规定的235us缩短到20us
那你可以调整pattern exposure 时间; 而pattern period大些.
根据User Guide以及测试，根据官方提供的API函数，最短曝光时间是230us，不知道能否通过iic进行开发，大幅度降低曝光时间。
谢谢！
查询规格书, pattern exposure time最小是235um. (1 bit);不能再小了.20us接近1个mirror翻转时间,这个是单个mirror的最大值, lightcrafter4500不能实现的.
在最快的4100中, 一个block最快是32000HZ.
也就是最小就只能是235us，不可能更小了？也不能达到200us是吧
那请问TI是否有可以控制曝光时间在20us以下的投影仪呢
谢谢
使用lightcrafter6500可以达到9523HZ.
http://www.ti.com/tool/dlplcr6500evm?keyMatch=lightcrafter 6500&tisearch=Search-EN-Everything
20us以下的没有. 这个基本mirror翻转的理论值.
现在最快的D4100, XGA可以到32000HZ(理论值).
