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DLPC3479: 关于DLP4710EVM-LC Internal patterns 最大曝光时间

Part Number: DLPC3479
Other Parts Discussed in Thread: DLP4710EVM-LC,

TI工程师您好,

我目前使用DLPC3479控制DLP4710EVM-LC,固件版本是8.1.0。我Internal Patterns下投影Mono 8-bits vertical patterns,GUI 软件中的曝光时间输入栏无输入上限提示。假设设置Pattern曝光时间为100000us,但实际投影上无法达到。

1、请问在这个版本下Internal Patterns下投影所支持的最大曝光时间是多少?

2、是否有支持长曝光的软件版本?

  • 现在的软件版本支持8bit Monochrome的internal pattern最大曝光时间是4100uS。目前没有更长曝光时间的软件。

  • 如你所说,8bit Monochrome的internal pattern最大曝光时间为Release Notes所写的4168us

    请问:

    1、如果设置的曝光时间大于4168us,实际投影中的曝光时间会被限制为4168us还是会另一个不确定的值?

    2、如下图,Release Notes中提到的更长的曝光时间无法保证精度和性能,这个" Longer exposure times"是指设置大于4168us的曝光时间还是仅指在2084 - 4168us范围内较大的曝光时间

  • 如果设置大于4168us,实际的曝光时序精度和效果都不能保证。这个更长的曝光时间是指4168uS以上。