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器件型号:INA239 工具与软件:
您好、TI 支持团队;
我们看到测量的分流电压具有较小的偏移。 对于给定的芯片、此偏移的幅度是否应该是恒定的(根据 dVOS/dT 只会有很小的变化)(预计会发生 Vos 的一些卷带到卷带和芯片到芯片的可变性)?
我们正在经历一个小偏移(大约3-4倍 LSB)、该偏移仅在 VDIFF (分流电压测量(VSHUNT)寄存器(地址= 4h))在几小时内为非零时出现、并且偏移将在 VDIFF = 0uV (没有电流流经分流电阻器)几小时后缓慢消耗到0x LSB。
数据表中未介绍我们观察到的行为。 您能否深入了解 Vos 的"恒定"性质? 它是否始终存在或它在报告的分流电压测量(VSHUNT)寄存器(地址= 4h)值中的显示方式是否定义了一些相关性?
谢谢!
耐特