This thread has been locked.

If you have a related question, please click the "Ask a related question" button in the top right corner. The newly created question will be automatically linked to this question.

[参考译文] DLPLCR99EVM:测试模式不一致和冷却问题

Guru**** 2693275 points

Other Parts Discussed in Thread: DLPLCRC964EVM, DLPLCR99EVM, DLP991U

请注意,本文内容源自机器翻译,可能存在语法或其它翻译错误,仅供参考。如需获取准确内容,请参阅链接中的英语原文或自行翻译。

https://e2e.ti.com/support/dlp-products-group/dlp/f/dlp-products-forum/1593325/dlplcr99evm-test-pattern-inconsistencies-and-cooling-questions

器件型号: DLPLCR99EVM
主题中讨论的其他器件: DLPLCRC964EVMDLP991U

我有两个关于 DLPLCR99EVM/DLPLCRC964EVM 组合的单独问题。 第一个是当我第一次将所有内容都连接起来并将其打开时、使用 TI 软件显示测试图形、看起来只有前 15%的像素行实际发生了变化(棋盘,对角线图形)。 其余的部分没有做任何事情。 我把所有的东西都关闭了,又打开了,因为它有完整的芯片来显示测试模式,但我想知道是否有任何理论来说明为什么会发生这种情况,以及如何确保它在未来不会发生。

第二个问题与 DLP991U 芯片的冷却有关。 只需显示静态测试模式、它就会立即上升到~50 C、符合规格要求、但我打算以接近允许的最大激光强度进行照明、因此希望为芯片创建一个足够强大的冷却系统。 如果适合大型 CPU 冷却器或其他类型的冷却系统以及安装它们的最佳方法、您可以推荐吗?  

谢谢!

  • 请注意,本文内容源自机器翻译,可能存在语法或其它翻译错误,仅供参考。如需获取准确内容,请参阅链接中的英语原文或自行翻译。

    Greg 您好:

    感谢您的问题并使用 E2E 论坛与我们联系!  我很乐意帮助您澄清使用 DLPLCR99EVM/DLPLCR964EVM 系统时的初始测试图形行为和热性能。

    首先、为了解决测试图形行为、您观察到的情况与微镜阵列在控制器尝试加载内部测试图形时未完全初始化一致。 DLP964 和 DLP991U 需要完成完整的启动序列(电源轨稳定,镜像停止/平板状态等)、然后器件才能可靠地接受全帧图形数据。  如果任何电源轨在第一次引导时斜升速度更慢、或者如果控制器比微镜就绪时间稍早将其 INIT_DONE 信号置为有效、则系统可能仅更新行子集。 下电上电会强制 DMD 和控制器重复完整的握手、因此所有内容都在第二次出现正常情况。 有关 DLP991U 正确上电和断电过程的更多信息、请查看 第 7.4 节:电源相关建议  DLP991U DMD 数据表 (DLPS249) 中的插件。

    此行为并不表示发生了损坏、一旦器件完成了干净的初始化序列、测试模式就会正常显示。 要避免重复发生:

    • 确保在启用照明之前、DMD 电源轨完全达到调节值
    • 在发送 GUI 命令之前、让 EVM 完成其整个引导周期
    • 如果使用外部电源、请验证斜升速率是否遵循 DLP991U 数据表 指南

     ~、为了保证 DLP991U 在静态高照明模式下的热性能、在显示明亮的静态内部测试模式时、温度通常会上升至 μ V 50°C。 静态白色/棋盘磁场会在微镜上产生最高的持续负载、并将最大的光功率反射到器件上、因此封装的暖通速度比调制或动态图形更快。

    对于在接近最大照明水平运行的系统、建议使用增强型冷却解决方案。 只要满足以下条件、就可以使用更大的 CPU 型散热器或有源冷却器:

    许多客户使用紧凑型塔式冷却器或铜基有源散热器。 只要外壳温度保持在指定限值范围内、该器件就会可靠运行。

    此致、  

    Tristan Bottone