This thread has been locked.

If you have a related question, please click the "Ask a related question" button in the top right corner. The newly created question will be automatically linked to this question.

[参考译文] DLPLCR99EVM:可最大限度减小光场特征尺寸的可比产品

Guru**** 1807890 points
Other Parts Discussed in Thread: DLP991U, DLPLCRC964EVM, DLPLCR99EVM, DLPLCRC900DEVM, DLPLCR90XEVM, DLPLCR90EVM
请注意,本文内容源自机器翻译,可能存在语法或其它翻译错误,仅供参考。如需获取准确内容,请参阅链接中的英语原文或自行翻译。

https://e2e.ti.com/support/dlp-products-group/dlp/f/dlp-products-forum/1425558/dlplcr99evm-comparable-products-for-minimising-feature-size-of-light-field

器件型号:DLPLCR99EVM
主题中讨论的其他器件:DLPLCRC964EVM

工具与软件:

嗨、团队:

我能否对我的假设的有效性进行一些确认、并就要探索的部分提出一些建议。

我计划进行一个实验 、该实验的目的是使用 DLP 产生具有以下规格的光场:

  • 波长:395-405nm
  • 最大照明功率:>10mW/cm2
  • 特征尺寸:最小化
  • 无需快速更改投影图案

在我看来、选择 DLP 时应该尽量减小微镜间距、这让我选择了 使用 DLPLCR99EVM 和 DLPLCRC964EVM 实现的具有4K 分辨率和5.4um 间距的 DLP991U。 这对最终版本来说是可行的、但我想制作成本更低的原型、以验证可实现的最小功能尺寸。 因此,我正在寻找另一个产品5.4um ,这应该产生类似的结果(只是在较低的阵列尺寸)。

如果这些假设正确、 您会为原型推荐哪些产品 ? 我希望亲身体验该光学元件、并期待 BYO 激光、电源、RTIR 棱镜和投影透镜、但我想最大限度地减少(/避免)任何 PCB 设计、以实现快速原型设计并保持控制系统尽可能简单(如果可能、则没有 FPGA?)、这让我认为我需要找到合适的 DMD EVM 和控制器 EVM 组合?

提前感谢您的帮助!

  • 请注意,本文内容源自机器翻译,可能存在语法或其它翻译错误,仅供参考。如需获取准确内容,请参阅链接中的英语原文或自行翻译。

    我认为唯一符合条件的是以下组合:

    但 AFAIK 这些不是以 EVM 格式提供的、我想让它们运行起来所需的设计工作会超出我为原型所能提供的范围。

    我唯一能找到的其他近距离竞争器是 DLPLCR50XEVM/DLPLCR67EVM DMD 与 DLPLCRC900DEVM  控制器配对、但它们仅在可见光谱中(它们如何在405nm 以下做出响应?)

    编辑:最大允许功率密度似乎大幅下降至10mW/cm2、超出了我的要求量-所以这应该是一个有效的选项?

  • 请注意,本文内容源自机器翻译,可能存在语法或其它翻译错误,仅供参考。如需获取准确内容,请参阅链接中的英语原文或自行翻译。

    基兰的下午好!  

    在数据表中概述的规格之外运行 EVM 可能会危及 DMD 的完整性。 我们建议遵守 DMD 数据表中建议的波长规格、以确保实现最佳性能并防止对 DMD 造成潜在损坏。  

    可考虑用于实验的其他替代 EVM 是 DLPLCR90XUVEVM、DLPLCR90XEVM 和 DLPLCR90EVM 、但这些 EVM 的像素间距为2560 x 1600、像素间距为7.56um。

    此致、

    Tristan Bottone.

  • 请注意,本文内容源自机器翻译,可能存在语法或其它翻译错误,仅供参考。如需获取准确内容,请参阅链接中的英语原文或自行翻译。

    您好 Tristan:

    感谢您的答复和建议。

    q1)也许我正在推我的运气、但是否可以合理地说、在规格 WRT 波长之外运行的影响只会降低器件的使用寿命(这在本实验中可能是可以接受的)。

    也就是说、在不适用于此类波长的器件上以小于420nm 的波长运行时、光场分布仍与适用于 UV 的器件相当。

    Q2)您能否确认我的假设:在 HD 阵列尺寸下以5.4 μ m 间距产生的 DMD 所产生的光场与在4K 阵列尺寸下以5.4um 间距产生的 DMD 所产生的光场的子集相当?

    希望这是有道理的、提前感谢!

  • 请注意,本文内容源自机器翻译,可能存在语法或其它翻译错误,仅供参考。如需获取准确内容,请参阅链接中的英语原文或自行翻译。

    基兰  

    请查看我的回复(. 显示为蓝色 )也是下面的两个问题。

    q1) 是否 可以说、超出指定 WRT 波长运行所产生的影响只会缩短器件的使用寿命?

    不过、虽然光场分布在某些方面可能仍与 UV 适用器件的光场分布相当、但在性能上仍然存在显著差异。 它主要会缩短器件的寿命、但  在输出端也可能会出现伪影和/或性能下降问题。  

    我们不建议在 数据表中指定的建议工作条件之外使用 DMD、因为 DMD 的整体图像质量和优化性能会受到影响。   

    Q2) 您能否确认我的假设:在 HD 阵列尺寸下以5.4 μ m 间距产生的 DMD 所产生的光场与在4K 阵列尺寸下以5.4um 间距产生的 DMD 所产生的光场的子集相当?

    是的、您的假设是合理的。 像素间距相同意味着像素特性保持一致。 HD 子集阵列大小的唯一限制是颜色深度和整体性能(分辨率)的限制。  

    此致、  

    Tristan Bottone.

  • 请注意,本文内容源自机器翻译,可能存在语法或其它翻译错误,仅供参考。如需获取准确内容,请参阅链接中的英语原文或自行翻译。

    非常有帮助、非常感谢  

  • 请注意,本文内容源自机器翻译,可能存在语法或其它翻译错误,仅供参考。如需获取准确内容,请参阅链接中的英语原文或自行翻译。

    请参阅 此处有关 FPGA 选择的后续问题

  • 请注意,本文内容源自机器翻译,可能存在语法或其它翻译错误,仅供参考。如需获取准确内容,请参阅链接中的英语原文或自行翻译。

    欢迎您、

    此致、

    Tristan Bottone.