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部件号：MMWCAS-RF-EVM 主题中讨论的其他器件：AWR2243、 AWR1642BOOST-ODS
工具/软件：
尊敬的 TI 专家：
我目前正在使用 TI MMWCAS-RF 评估模块 (EVM) 和四个 AWR2243 器件、旨在对真皮样片进行近距离成像。 我的目标不是将皮革作为物体检测,而是将其表面的空间反射可视化——从本质上来说,雷达是一种成像工具,用于分析表面结构或纹理。
以下是设置：
皮革样品平放在桌子上、在适当的 RF 吸收器的顶部、以最大程度地减少背景反射。
我已经尝试利用雷达系统本身来减少视轴反射的影响。 这种方法确实有助于减轻视轴返回的主导地位、但也需要权衡：整体反射信号会明显变弱、从而导致成像质量不佳。
请您就以下问题提供意见：
1-是否可以探索不同的 MIMO 配置（例如调整虚拟阵列几何形状）以减少直接路径反射？
2-我是否可以 在双静态设置中使用两个级联雷达系统（或将我们以前的 AWR1642BOOST-ODS 用作 TX）、并将单独的发射和接收阵列放置在皮革样品的两侧（即，采用夹层式配置）？
3-我们的级联 MMWCAS-RF-EVM 设置的近场限制是多少？ 具体而言、在成像配置中、我们能够可靠地捕获有意义的反射或测量值的最小距离是多少？
4-是否有任何特别适用于使用毫米波雷达的近场表面成像的线性调频脉冲/天线设置？ （还要在“TXMIMO.lua"<xmt-block0>“ Cascade_Configuration_和“TXDF.lua"之间“之间进行选择 Cascade_Configuration_。）
非常希望从类似的材料检验应用中获得任何建议、示例或参考。
提前感谢您的支持！
此致、
埃米尔
