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[参考译文] OPT8241-CDK-EVM：棋盘图形上的深度错误

admin
Guru**** 2606725 points


请注意，本文内容源自机器翻译，可能存在语法或其它翻译错误，仅供参考。如需获取准确内容，请参阅链接中的英语原文或自行翻译。

https://e2e.ti.com/support/sensors-group/sensors/f/sensors-forum/595626/opt8241-cdk-evm-depth-errors-on-checkerboard-pattern

器件型号：OPT8241-CDK-EVM

在对平面棋盘图案进行成像时、光正方形和暗正方形之间的转换会出现深度错误。  未处于转换状态的点会产生相当一致的结果。  是否有任何方法可以提高这些转换时的深度精度？

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    TI__Guru**** 2606725 points
    请注意，本文内容源自机器翻译，可能存在语法或其它翻译错误，仅供参考。如需获取准确内容，请参阅链接中的英语原文或自行翻译。
    您好 Steve、

    我们将仔细研究您的查询、下周再见。
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    TI__Guru**** 2606725 points
    请注意，本文内容源自机器翻译，可能存在语法或其它翻译错误，仅供参考。如需获取准确内容，请参阅链接中的英语原文或自行翻译。
    这是在两个高对比度区域之间的边界发生的 ToF 传感器的已知问题、光电可能会泄漏到邻近的像素。
    为了解决这个问题、建议应用一个空间"陷波"滤波器、其中内核的中心值(例如3x3内核示例)为-1、邻居为0.125、或者应用一个等效的5x5陷波。 更巧妙的方法是首先在振幅图像上运行索贝尔滤波器、以查找高对比度边框、然后仅对这些边框点应用陷波滤波器。