Other Parts Discussed in Thread: DLP991UUV, DLPLCR99UVEVM, DLP991U
部件号: DLPLCR99UVEVM
主题中讨论的其他器件: DLP991UUV、 DLP991U
我正在将 DLP991UUV (0.99“ 4K UV DMD) 集成到需要在有源阵列上具有 5W–10W 入射 355nm UV 光的系统中。 我正在寻求有关镜面涂层的长期可靠性以及对库存 EVM 增加冷却能力的指导。
激光参数:
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波长:355 nm
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16W 平均功率、40kHz 重复速率、~15ns 脉冲宽度。
cm² 平均功率保持稳定、我打算增加重复率(高达 200KHz 以上)并增加脉冲宽度、以更大限度地降低峰值功率密度(GW/m ²)和机械铰链疲劳。
将展开射束以填充整个活动阵列 (2.6 cm^2)。 假设总吸收率为 15%(包括微镜反射率损耗和间隙下的基板吸收)、我预计 DMD 封装上的热负载约为 1.5W。
我担心 EVM 上的库存无源铝散热器不足以满足这种入射光需求。 我计划使用高静压风扇添加主动强制对流进行 CPU 冷却、但我只是想检查是否有解决类似问题的想法、我可以从中获得一些灵感。