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[参考译文] LM5168PEVM：纹波生成部分的布局

admin
Guru**** 2387080 points
Other Parts Discussed in Thread: LM5169, LM5168PEVM
请注意，本文内容源自机器翻译，可能存在语法或其它翻译错误，仅供参考。如需获取准确内容，请参阅链接中的英语原文或自行翻译。

https://e2e.ti.com/support/power-management-group/power-management/f/power-management-forum/1501804/lm5168pevm-the-layout-for-ripple-generation-portion

器件型号：LM5168PEVM
主题中讨论的其他器件：LM5169、

工具/软件：

您好的团队、

他们想要使用 LM5169。 根据数据表、他们需要注意反馈部分的布局。 但是、没有对纹波生成部分的布局进行说明。  

 通过 LM5168PEVM、纹波生成部分的布局也遵循了与反馈部分相同的方法、如下图所示。 您能否证实 TI 建议纹波生成部分的布局是否需要使用反馈选项采用相同的方法？

此致、

高桥则幸

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    TI__Guru**** 2387080 points
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    你好、Noriyuki、

    请遵循 EVM 布局。   

    谢谢。

    David。

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    TI__Guru**** 2387080 points
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    您好、David：

    请允许我再问一个问题。

    如下图所示、SW 引脚和纹波生成部分/反馈电路之间似乎需要一定距离。 您能告诉 他们需要多远的距离作为推荐吗？

    此致

    高桥则幸

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    TI__Guru**** 2387080 points
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    你好 Naoriyuki、

    一些纹波生成布线靠近 SW 节点、因为它会返回到器件。  请尝试尽可能使其远离实际情况、但最重要的是保持纹波生成以差分方式布线、如图所示。

    希望这有所帮助。

    David。

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    TI__Guru**** 2387080 points
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    David、

    请允许我再问一个问题。

    反馈路径和纹波注入路径模式是否应该像开发板一样并联布线？ 还是最好尽可能将它们分开？

    此致、

    高桥则幸

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    TI__Guru**** 2387080 points
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    你好、Noriyuki、

    是的、让它看起来像开发板。

    谢谢你。

    David。