工具/软件:
尊敬的专家:
客户报告说、我们 EVM 的背面有许多0201去耦电容器、在焊盘中使用了过孔。 他们的工厂对此有许多担忧、如下所示:
我们目前正在使用 POFV (树脂塞孔+电镀填充)+浸金工艺、 但电镀平坦度不符合0201器件的焊接要求;0201器件具有小焊盘和低钢网状厚度、并且焊盘上孔的不均匀电镀对其有很大影响、这可能会导致冷焊接问题、无法保证长期可靠性。
您认为这种担忧对您来说是有意义的吗? 你对他们有什么建议吗?
BR、
Biao
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客户报告说、我们 EVM 的背面有许多0201去耦电容器、在焊盘中使用了过孔。 他们的工厂对此有许多担忧、如下所示:
我们目前正在使用 POFV (树脂塞孔+电镀填充)+浸金工艺、 但电镀平坦度不符合0201器件的焊接要求;0201器件具有小焊盘和低钢网状厚度、并且焊盘上孔的不均匀电镀对其有很大影响、这可能会导致冷焊接问题、无法保证长期可靠性。
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BR、
Biao
这些问题应面向 PCB 板制造商及其能力。 我们与用于 EVM 开发的 PCB 制造商合作没有强调任何关于0201器件的数量和位置以及过孔(在焊盘中)的相对位置的问题。
请注意、可以调整设计以满足不同的制造需求。 在这种情况下、需要注意确保去耦电容器具有低电感路径。 一种可能的选择是将一些电容器移至顶层、就在处理器外围之外。 假设专用电源层靠近处理器、较短的过孔走线有助于偏移更远的电容器位置。